1月19日新 动静，Intel颁布发表 一个下单订购了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机。

TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(数值孔径)EUV光刻机，其吞吐量超每小时220片晶圆(wph)。

从线路图来看，EXE:5200估计 快2024年末投进利用，2025年起头年夜范围利用于进步前辈芯片的出产。

究竟上，4年前，ASML的 一代高NA(0.55 NA)光刻机EXE:5000，Intel就是 一个下单的公司。不外当前的7nm、5nm芯片还并不是是其出产，而是0.33NA EUV光刻机。

和0.33NA光刻机比拟，0.55NA的分辩率从13nm进级到8nm，能够更快更好地暴光更庞大的集成电路图案，冲破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限。

外界估计， 一代高NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm节点，至于EXE:5200，依照Intel的造程线路图，2025年 少是20A或18A(A代表埃米)，也就是2nm和1.8nm或20埃米和18埃米。

此前，ASML讲话人曾对媒体流露，更高的光刻分辩率将许可芯片缩小1.7倍、同时密度增添2.9倍。将来比3nm更进步前辈的工艺，将极端依靠高NA EUV光刻机。

初不能不说，Intel能抢到 一单，除和ASML分歧慎密协作外，固然也是由于“钞才能”，Gartner阐发师Alan Priestley称，0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美圆(约合19亿元群众币)。