苹果正在iPhone上已利用了长达5年的刘海屏，固然今朝iPhone 13系列将刘海面积缩小，可是有用显现面积实在并没有增添太多，遮挡的环境仍然严峻。

一向以来，外界都但愿苹果能早日实现屏下Face ID等手艺，将刘海完整埋没到屏幕下方，实现完整无开孔的结果，再共同上iPhone四边等宽的设想，视觉结果应当会很是超卓。

从新 动静来看，那个胡想能够不远了。

据报导，克日美国专利商标局正在4月5日已正式授与苹果一项新专利，该专利先容中显现，其能够将Face ID组件影躲正在屏幕下方，屏幕仍然能够一般显现，脸部辨认也能一般事情，两不迟误。

不外需求注重的是，该专利是方才获批，那就意味着iPhone 14已完整不成能搭载那项手艺。

而依照苹果的超长产物计划时候来看，iPhone 15系列的一部门初期事情也许也已起头，是有一些但愿利用该手艺的，可是斟酌到今朝只是专利获批，手艺还还没有成型，正在iPhone 15的开辟周期内年夜几率没法调试完美。

从今朝的状态来看，iPhone 16系列将会是 年夜几率会首发该手艺的机型，可实现完整无开孔、无刘海，那也与此前阐发师罗斯-杨和郭明錤的阐发符合。

至于iPhone 14系列，依照今朝的多方动静称其已起头试产，尺度版两款机型将持续利用小刘海，Pro版则进级为“感慨号”打孔计划。

那也是5年来苹果初次向苹果动刀子，一样也被以为是苹果将要完全丢弃刘海的标记。